Микромаркировка

CRYSTALAS CVL — MM. Установка для микромаркировки алмазов и других материалов

Микромаркировка алмазов и других материалов

Лазерная маркировка материалов в последние годы нашла широкое применение в промышленности и в быту и используется как неотъемлемая часть представления информации об изделии. Система «CRYSTALAS CVL — MM» используется для «скрытой» микромаркировки любых изделий в том числе алмазов и бриллиантов с целью их сертификации. За счет локального испарения материала маркировка обладает стойкостью к любым воздействиям и может сохраняться неограниченное время. Глубина маркировки составляет доли микрометра, что полностью исключает влияние маркировки на свойства и работу изделий.

Установка CRYSTALAS CVL — MM

Разработанная система предназначена для специальной маркировки, отличающейся от обычной чрезвычайно малыми (микронными) размерами. Данную маркировку невозможно увидеть невооруженным глазом.

Для этого надо использовать специальные микроскопы в зависимости от материала объекта или универсальный считыватель, созданный нами для данной задачи. Главное назначение такой «скрытой» маркировки – борьба с подделкой ответственных и ценных изделий. Микромаркировка происходит за счет проекционного формирования мощного лазерного пучка в виде заданного рисунка или текста на поверхности объекта с помощью управляемой маски. Процесс микромаркировки чрезвычайно трудно реализовать известными методами лазерной маркировки. Этим объясняется практическое отсутствие аналогов созданного оборудования. Представляемая система состоит из лазерного усилителя на парах металлов и специальной проекционной оптической системы. Микромаркировка может быть нанесена практически на любые материалы: все металлы и сплавы, керамика, сапфир, пластик, драгоценные камни, композитные материалы и.др. 

Это важно при маркировке ответственных авиационных, космических и других деталей. Уникальность системы заключается в возможности формирования рисунка с толщиной линии менее 1 мкм, а весь сложный рисунок может иметь размеры от 10 до 300 мкм, в зависимости от целей и степени защиты.

Установка CRYSTALAS CVL — MM

Спецификация

Технические характеристики

Размер поля изображения 1-300 mkm
Минимальная ширина линии 1 mkm
Глубина обработки до 0,4 mkm
Увеличение системы визуального
наблюдения более 1000x
Тип лазера Лазер на парах меди
Охлаждение Воздушное
Питание 220 В, 50-60 Гц
Размеры 1100x400x600 mm
Вес 50 кг

Образцы микромаркировки

Закрыть меню